2001
総合科学施設 M社
Process Gas:others, propylene, hexane, ethene
Flow rate:670 m3/H
Inlet vapor concentration:6 VOL%
Outlet vapor concentration:100 ppm以下
Note:排ガス規制/液回収/窒素回収
関東地区
2001
Process Gas:others, propylene, hexane, ethene
Flow rate:670 m3/H
Inlet vapor concentration:6 VOL%
Outlet vapor concentration:100 ppm以下
Note:排ガス規制/液回収/窒素回収
関東地区