2004
化学施設 T社
Process Gas:others, benzene, acetone, hexane
Flow rate:700 m3/H
Inlet vapor concentration:10 VOL%
Outlet vapor concentration:100 ppm以下
Note:排ガス規制/液回収
関東地区
2004
Process Gas:others, benzene, acetone, hexane
Flow rate:700 m3/H
Inlet vapor concentration:10 VOL%
Outlet vapor concentration:100 ppm以下
Note:排ガス規制/液回収
関東地区