2008
電気機器精密機械施設 H社
Process Gas:Tetrahydrofuran (THF)
Flow rate:19 m3/H
Inlet vapor concentration:20.4 VOL%
Outlet vapor concentration:19000 ppm以下
Note:排ガス規制/液回収
関西地区
2008
Process Gas:Tetrahydrofuran (THF)
Flow rate:19 m3/H
Inlet vapor concentration:20.4 VOL%
Outlet vapor concentration:19000 ppm以下
Note:排ガス規制/液回収
関西地区